专利摘要：本发明公开了一种等离子体增强清洗装置，用于清洗待处理产品，包括真空腔室、等离子体发生器、安装部、脉冲偏压电源，真空腔室具有进气口和出气口，离子体发生器包括呈空腔的本体部，本体部具有上部和下部，上部和下部相对设置且均设有若干镂空部；安装部伸入所述真空腔室内以供等离子体发生器进行安装；脉冲偏压电源的正极与真空腔室电连接形成阳极，脉冲偏压电源的负极与等离子体发生器电连接。该等离子体增强清洗装置能形成伞状辉光等离子体，增强上下轰击，提高对异型治具、大钻、PCB特刀、深刀槽刀具等产品的清洁能力，可进行横向和纵向的深度辉光清洗，整体提升产品各个面的清洗和活化效果。本发明还提供一种清洗方法。

今年以来鼎泰高科新获得专利授权3个。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了4595.1万元，同比增15.58%。

数据来源：企查查

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